米下院の対中半導体製造装置規制法案が修正され一部の制限が緩和されるもASML製装置などは引き続き規制対象に残留
米下院で審議中の対中半導体製造装置規制法案「MATCH法」の修正案が公表され、当初案に含まれていた一部の制限が削除されました。一方でASML製の露光装置や中国企業3社への供給制限は維持されており、同法案は来週の水曜日に下院外交委員会で採決される予定です。米国は日本やオランダとの足並みを揃えることを目指しています。
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米国の議員らは、中国への半導体製造装置の輸出を制限する法案の内容を一部緩和した。ロイターが確認した最新の草案によると、当初の案からは制限範囲が縮小されたものの、オランダのASMLホールディングが強みを持つ深紫外線（DUV）露光装置に対する新たな国別制限は依然として含まれている。
