ASML、2028年のEUV装置増産を検討

ASMLは、急増する人工知能需要を満たすため、2028年に110台以上のEUV半導体露光装置を製造する方策を検討している。JPMorganのアナリストによると、同社の主な制約要因はサプライチェーンではなく組み立てスピードであるという。

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資料写真:オランダ・フェルトホーフェンのASMLオフィスにあるロゴ。2026年3月24日撮影。ロイター/Nicolas Economou/資料写真

ASML HOLDING NV は、人工知能需要に対応するため、2028年に110台以上の極端紫外線露光装置を製造する生産経路を検討している。JPMorganのアナリストが明らかにした。オランダの同装置メーカーは、現行の2028年目標を上回る生産規模を目指している。半導体メーカー各社が工場改修を急ぐ中、この増産計画は米国や中国を含む世界市場で加速する半導体製造要件を浮き彫りにしている。

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