ASML、先端半導体装置向け大型マスク開発へ
ASMLは主要半導体メーカーと提携し、先端High NA EUV装置向けの大型マスク開発を計画しています。この取り組みは2033年までに大型データセンター向け半導体の量産を支援し、システムの生産性を大幅に向上させることを目指しています。
Xurve View
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ASMLは主要半導体メーカーと提携し、先端High NA EUV装置向けの大型マスク開発を計画しています。この取り組みは2033年までに大型データセンター向け半導体の量産を支援し、システムの生産性を大幅に向上させることを目指しています。