Huawei发布新芯片设计法则力争2031年达到1.4纳米水平
Huawei Technologies宣布推出Tau Scaling Law,旨在通过降低信号延迟而非缩小晶体管尺寸来提升芯片性能。该公司目标是到2031年实现等效1.4纳米的密度,并计划于今年晚些时候在Kirin芯片中首次采用LogicFolding架构。
Xurve View
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Huawei 计划到 2031 年生产晶体管密度达到 1.4 纳米水平的半导体,以绕过贸易限制。这一目标旨在缩小国内 7 纳米技术能力与全球前沿水平之间的差距。实现这一目标将为中国提供一种能够替代西方人工智能硬件的自给自足方案。
### 从摩尔定律转向 Tau Scaling Huawei 在周一上午发布了一种名为 Tau Scaling Law 的新设计原则。该战略摆脱了传统的晶体管缩减路径,因为随着组件达到原子尺度,物理极限已难以突破。相反,该公司正专注于减少计算系统内的信号传输时间和数据移动延迟。










