阿斯麦突破EUV光源技术瓶颈助力2030年芯片产能提升五成
荷兰光刻机巨头阿斯麦在圣地亚哥宣布其极紫外光刻机光源功率已成功从600瓦提升至1000瓦，这一重大的技术进步将使单台设备的芯片产能到2030年提升百分之五十。通过增加锡滴频率和优化双激光脉冲技术，阿斯麦旨在显著降低芯片制造成本并拉开与美中竞争对手的差距。该公司表示未来光源功率有望进一步突破至1500瓦甚至更高水平。
洞察:
2026年2月23日，阿斯麦（ASML Holding N.V. ）的研究人员宣布了一项旨在提升极紫外光刻机（EUV）光源功率的技术方法。根据研究人员Michael Purvis和Teun van Gogh披露的信息，该方法能够将光源功率从现有的600瓦提高到1,000瓦。公司方面表示，这一功率的跃升将显著增加每台机器的晶圆吞吐量，并有望在2030年之前使芯片产量提升高达50%。
