美国拟通过MATCH法案限制ASML等半导体设备商向中国出口并禁止相关技术服务
美国跨党派议员周四提出MATCH法案，旨在通过限制浸没式DUV光刻机等关键设备的出口，防止中国获取无法自主生产的芯片制造工具。该法案不仅针对荷兰ASML和日本尼康等盟国企业，还禁止向中芯国际及华为等中国领先芯片制造商销售设备或提供售后服务。此举意在确保美国在人工智能领域的领先地位。
Xurve View
洞察:
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美国跨党派议员近日提出了一项名为《MATCH法案》的法律草案，旨在对向中国出口的计算机芯片制造设备实施更严厉的限制。此举将直接影响全球光刻机巨头阿斯麦以及中国顶尖的芯片制造商。该法案的主要目标是保护美国在人工智能领域的领先地位，防止中国获得其目前无法自主生产的芯片制造工具，并确保美国盟友国家的企业与美国竞争对手面临同等的限制规则。
