ASML phát triển mặt nạ lớn hơn cho thiết bị chip tiên tiến

ASML lên kế hoạch hợp tác với các nhà sản xuất chip lớn để phát triển mặt nạ quang học lớn hơn cho các công cụ High NA EUV tiên tiến. Động thái này nhằm hỗ trợ sản xuất chip trung tâm dữ liệu cỡ lớn vào năm 2033, giúp nâng cao năng suất hệ thống.