ASML revela avanço tecnológico que pode aumentar produção de chips em cinquenta por cento até o final da década
A empresa holandesa desenvolveu uma fonte de luz mais potente para suas máquinas de litografia. O avanço permitirá fabricar até 330 wafers por hora até 2030.
Perspectivas:
Pesquisadores da ASML Holding N.V. anunciaram hoje, 23 de fevereiro de 2026, um avanço técnico significativo em suas máquinas de litografia ultravioleta extrema (EUV). O método revelado permite elevar a potência da fonte de luz de 600 watts para 1.000 watts, uma melhoria que a empresa afirma que aumentará a capacidade de processamento de wafers por máquina. Segundo as projeções da companhia, esse incremento técnico poderá viabilizar a produção de até 50% mais chips até o ano de 2030, impactando diretamente a velocidade de fabricação e os custos operacionais da indústria de semicondutores.
A divulgação, fundamentada no trabalho dos pesquisadores Michael Purvis e Teun van Gogh, reforça o papel central da ASML como fornecedora de equipamentos críticos para os principais fabricantes de semicondutores do mundo. A implementação desta tecnologia envolve componentes de alta precisão de parceiros como a Carl Zeiss AG e é acompanhada de perto por clientes de grande escala, incluindo a Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Limited e a Intel Corporation . O aumento da potência da fonte de luz é apresentado como um fator determinante para a eficiência da produção em massa de chips de última geração, influenciando a competitividade global no setor.
