ASML logra un avance tecnológico que permitirá fabricar un cincuenta por ciento más de chips para finales de la década
ASML crea una luz EUV de mil vatios para fabricar más chips. El avance busca mantener su liderazgo global frente a la competencia de Estados Unidos y China.
Perspectivas:
Investigadores de ASML Holding N.V. han anunciado hoy, 23 de febrero de 2026, un nuevo método técnico diseñado para incrementar la potencia de la fuente de luz en sus máquinas de litografía de ultravioleta extremo (EUV). Según el informe presentado por la compañía, la potencia pasará de los 600 vatios actuales a 1.000 vatios, un avance que permitirá elevar el rendimiento de obleas por máquina y que, según las estimaciones de la empresa, podría facilitar la producción de hasta un 50% más de chips para el año 2030.
Este desarrollo técnico, liderado por los investigadores Michael Purvis y Teun van Gogh, tiene un impacto directo en la velocidad de fabricación y en la reducción de los costes operativos por chip. La mejora refuerza la posición de la firma neerlandesa como el principal proveedor de equipos críticos de litografía para los mayores fabricantes del sector. En este ecosistema, la colaboración con entidades como Carl Zeiss AG resulta fundamental para el suministro de los componentes ópticos necesarios para operar a estas potencias elevadas.
