中国多位半导体领军企业负责人建议在十五五规划期间举全国之力整合资源研发国产光刻机并打造中国版ASML

中国顶尖半导体企业高管近日联合发出呼吁，建议在2026年至2030年的“十五五”规划期间，通过全国性的统筹协调，全力开发可运行的光刻系统，以应对北京方面对技术自给自足的迫切需求。这一建议由北方华创董事长赵晋荣、华大九天董事长刘卫平以及长江存储董事长陈南翔联合多家半导体研究机构共同提出。他们在周三晚间发表的署名文章中强调，政府应集中全国资源，整合各研究机构的技术突破。

自2020年以来，半导体制造已成为美国与中国科技竞争的焦点。华盛顿方面持续施加限制，试图阻止中国发展7纳米以下的先进生产能力。这些高管在《科技导报》（中国科协所属期刊）中指出，以光刻机为例，荷兰企业阿斯麦的极紫外（EUV）光刻设备包含由5000家供应商提供的10万个零部件，而阿斯麦本身主要承担集成商的角色。