ASML拟研发大尺寸掩模版升级先进芯片设备

ASML计划与主要芯片制造商合作，为其先进的High NA EUV光刻设备开发更大尺寸的掩模版。此举旨在支持2033年前大型数据中心芯片的量产，并大幅提升系统生产效率。

2026年9月8日

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