ASML เปิดตัวนวัตกรรมแหล่งกำเนิดแสง EUV รุ่นใหม่ที่ช่วยผลิตชิปได้เร็วขึ้น 50 เปอร์เซ็นต์ภายในสิ้นทศวรรษนี้
ASML พบวิธีเพิ่มกำลังแสง EUV เป็น 1,000 วัตต์ ซึ่งจะช่วยเพิ่มกำลังผลิตชิปได้ถึง 50% ภายในปี 2030 เพื่อลดต้นทุนและรักษาความเป็นผู้นำในตลาดเทคโนโลยีเซมิคอนดักเตอร์โลก
ประเด็นสำคัญ:
นักวิจัยจาก เอเอสเอ็มแอล โฮลดิ้ง ได้ประกาศความสำเร็จในการพัฒนาวิธีการทางเทคนิคเพื่อเพิ่มกำลังของแหล่งกำเนิดแสงในเครื่องพิมพ์ชิประบบเอกซ์ตรีมอัลตราไวโอเลต (EUV) จากเดิม 600 วัตต์ เป็น 1,000 วัตต์ เมื่อวันที่ 23 กุมภาพันธ์ 2026 โดยระบุว่าความก้าวหน้านี้จะช่วยเพิ่มปริมาณการผลิตแผ่นเวเฟอร์ต่อเครื่อง และอาจส่งผลให้สามารถผลิตชิปได้เพิ่มขึ้นถึงร้อยละ 50 ภายในปี 2030 ซึ่งการเปลี่ยนแปลงนี้จะส่งผลกระทบโดยตรงต่อความเร็วและต้นทุนในการผลิตชิป พร้อมทั้งตอกย้ำตำแหน่งของบริษัทในฐานะผู้จัดหาอุปกรณ์ EUV ที่สำคัญให้กับผู้ผลิตชิปรายใหญ่ทั่วโลก
